開口處的油墨(mo)可能(neng)凝固，從(cong)而導致噴嘴堵塞(sai)或者在打(da)印時(shi)蹭臟(zang)打(da)印介質(zhi)，嚴重影響(xiang)打(da)印質(zhi)量。為了防止(zhi)噴嘴堵塞(sai)或者蹭臟(zang)打(da)印介質(zhi)，需要對噴嘴表面(mian)進行及時(shi)清理(li)。

　　清(qing)(qing)理打(da)印噴(pen)嘴(zui)的(de)方法(fa)一般有3種：一是(shi)驅動流體通(tong)過噴(pen)嘴(zui)的(de)外側; 二是(shi)使用(yong)(yong)擦(ca)(ca)拭(shi)結構;三(san)是(shi)使用(yong)(yong)清(qing)(qing)洗液(ye)。其中，使用(yong)(yong)擦(ca)(ca)拭(shi)結構對打(da)印噴(pen)嘴(zui)表面進行清(qing)(qing)理是(shi)目前最常用(yong)(yong)的(de)清(qing)(qing)理方式。而如何使用(yong)(yong)擦(ca)(ca)拭(shi)結構使打(da)印噴(pen)嘴(zui)的(de)表面得到更好的(de)清(qing)(qing)理效果，成為業(ye)內亟待(dai)解決(jue)的(de)問(wen)題(ti)。

　　本(ben)文針對使用擦拭(shi)結構對打(da)印噴嘴進行(xing)(xing)清理領域，分(fen)別從專利(li)申請趨勢、技術(shu)(shu)來(lai)源、技術(shu)(shu)分(fen)布、主要創新主體等維(wei)度(du)對其專利(li)發(fa)展現狀進行(xing)(xing)了(le)分(fen)析。

　　技術發展狀(zhuang)況分析

　　1. 專利申請(qing)趨勢分析

　　圖(tu) 1 所示為使用擦拭結構對打印噴嘴表面進行清理領(ling)(ling)域的(de)全(quan)球(qiu)專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利申(shen)請(qing)(qing)趨勢(shi)(shi)。分(fen)析可知，近 20 年(nian)(nian)來，該(gai)領(ling)(ling)域的(de)全(quan)球(qiu)專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利申(shen)請(qing)(qing)量(liang)(liang)呈(cheng)波動發展態(tai)勢(shi)(shi)。2016 之前，每年(nian)(nian)專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利申(shen)請(qing)(qing)量(liang)(liang)大(da)(da)多在(zai) 200 ～ 300 件(jian)之間(jian)，變化幅度(du)不大(da)(da)，可以認為是行業(ye)成長(chang)期(qi)，技術研發進度(du)緩(huan)慢(man)，創(chuang)(chuang)新成果產出量(liang)(liang)相對較少(shao)。自 2017 年(nian)(nian)開(kai)(kai)始，該(gai)領(ling)(ling)域專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利申(shen)請(qing)(qing)量(liang)(liang)顯著(zhu)上升，每年(nian)(nian)申(shen)請(qing)(qing)量(liang)(liang)突破 300 件(jian)，2019 年(nian)(nian)達到近年(nian)(nian)峰值 413 件(jian)，可見(jian)該(gai)領(ling)(ling)域技術研究和專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利保護進入快速(su)提升階段，創(chuang)(chuang)新主體的(de)專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利布局規模不斷擴(kuo)大(da)(da)。而(er)近兩年(nian)(nian)專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利申(shen)請(qing)(qing)量(liang)(liang)出現明顯下降，是由于(yu)專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利申(shen)請(qing)(qing)從提交到公開(kai)(kai)需要一定(ding)時間(jian)，因此(ci)一部分(fen)專(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)利申(shen)請(qing)(qing)還沒有進入公開(kai)(kai)階段，無法進行統計(ji)，因此(ci)僅供參考。

　　2. 專利技(ji)術來源分析(xi)

　　圖 2 所示為(wei)該(gai)領(ling)(ling)域專利(li)技術來(lai)源(yuan)(yuan)分(fen)布(bu)情況。分(fen)析(xi)可知，該(gai)領(ling)(ling)域全(quan) 球專利(li)申(shen)請中有 50% 以上(shang)來(lai)源(yuan)(yuan)于(yu)日(ri)本，申(shen)請量(liang)(liang)達到(dao) 3511 件，獨占鰲(ao)頭，可見日(ri)本創(chuang)新(xin)主(zhu)體(ti)在(zai)該(gai)領(ling)(ling)域的技術研究處(chu)于(yu)絕對(dui)優勢地位;其次是美國(guo)，專利(li)申(shen)請量(liang)(liang)占比(bi) 16.8%，排名第二位，說明(ming)美國(guo)創(chuang)新(xin)主(zhu)體(ti)在(zai)該(gai)領(ling)(ling)域也(ye)有較(jiao)(jiao)深(shen)入的研究，專利(li)布(bu)局規模僅(jin)次于(yu)日(ri)本;另外，愛爾蘭的專利(li)占比(bi)為(wei) 8.4%，名列第三，創(chuang)新(xin)實力(li)也(ye)不(bu)容小覷;韓國(guo)和澳大(da)利(li)亞的專利(li)占比(bi)略超 5%，創(chuang)新(xin)實力(li)差距不(bu)大(da);而中國(guo)的專利(li)占比(bi)僅(jin)為(wei) 3.4%，說明(ming)我國(guo)創(chuang)新(xin)主(zhu)體(ti)在(zai)該(gai)領(ling)(ling)域的技術研究相對(dui)較(jiao)(jiao)少(shao)，創(chuang)新(xin)實力(li)還有待提(ti)升。

　　3. 主(zhu)要(yao)創新主(zhu)體分析

　　圖 3 所示為該(gai)領(ling)域全球(qiu)(qiu)主(zhu)(zhu)要(yao)創新(xin)主(zhu)(zhu)體(ti)的(de)排名(ming)情況(kuang)。分析(xi)可知，排名(ming)前(qian)十的(de)創新(xin)主(zhu)(zhu)體(ti)中，日本(ben)企業有 6家，可見日本(ben)創新(xin)主(zhu)(zhu)體(ti)在(zai)該(gai)領(ling)域具有不可小(xiao)覷的(de)實(shi)力(li)(li)。全球(qiu)(qiu)除了(le)日本(ben)企業在(zai)該(gai)領(ling)域占有絕對的(de)優勢之外，美國的(de)惠普公司(si)也有較強(qiang)的(de)競(jing)爭力(li)(li)，其研發(fa)投入以及專(zhuan)利(li)申請量(liang)排名(ming)全球(qiu)(qiu)第(di)三。另外，愛(ai)爾蘭的(de)馬(ma)姆杰特(te)科技也具有一(yi)定的(de)研發(fa)實(shi)力(li)(li)，排名(ming)第(di)四位(wei)。中國在(zai)該(gai)領(ling)域的(de)專(zhuan)利(li)申請量(liang)雖然排名(ming)全球(qiu)(qiu)第(di)六(liu)位(wei)，但由于申請人主(zhu)(zhu)要(yao)分散(san)在(zai)中小(xiao)公司(si)，因此未有中國創新(xin)主(zhu)(zhu)體(ti)躋(ji)身全球(qiu)(qiu)前(qian)十行列。

　　圖 4 所示為(wei)全球主(zhu)要(yao)創(chuang)新主(zhu)體(ti)的專(zhuan)利申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)趨(qu)勢。分析可(ke)知，近(jin) 20 年(nian)來，精工(gong)愛普(pu)生的專(zhuan)利申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)總體(ti)呈現增(zeng)長(chang)態(tai)勢，尤其是 2013 年(nian)以(yi)后申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)出現急速上升，雖然2017—2019 年(nian)略有(you)下降(jiang)，但其申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)仍然遠超其他(ta)競爭對手，可(ke)見其近(jin)些(xie)年(nian)在(zai)該(gai)領域創(chuang)新趨(qu)向活躍，技術發展迅速。佳能和惠普(pu)的專(zhuan)利申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)總體(ti)也呈現平穩增(zeng)長(chang)趨(qu)勢，每年(nian)申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)均在(zai) 50 件以(yi)內。馬姆(mu)杰特科技的專(zhuan)利申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)趨(qu)勢波(bo)動幅度較大，其申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)在(zai) 2011 年(nian)以(yi)前增(zeng)長(chang)較快，并且大多年(nian)份(fen)超越了精工(gong)愛普(pu)生、佳能和惠普(pu)，但自 2011年(nian)達到峰值后開(kai)始急速下降(jiang)，發展后勁不足。而兄弟工(gong)業的專(zhuan)利申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)保持(chi)相(xiang)對穩定態(tai)勢，大多年(nian)份(fen)申(shen)(shen)請(qing)(qing)(qing)量(liang)(liang)(liang)(liang)在(zai) 10 ～ 20 件之間。

　　4. 重要技術分支分析

　　專利數量較(jiao)多的(de)(de)技術(shu)分支通常被(bei)認為是較(jiao)為重要的(de)(de)技術(shu)分支，技術(shu)創新(xin)相對較(jiao)為活(huo)躍(yue)。按照 CPC 分類號將使用(yong)擦(ca)拭結(jie)構(gou)(gou)對打印噴(pen)嘴 進行清(qing)理技術(shu)領域分為 4 個重要技術(shu)分支，分 別為：B41J2/16538(刷子或擦(ca)拭器(qi)刮(gua)板清(qing)潔(jie)(jie)噴(pen)嘴);B41J2/16541(從擦(ca)拭器(qi)或刮(gua)板除去(qu)沉積物的(de)(de)裝置);B41J2/16544(擦(ca)拭器(qi)的(de)(de)定位(wei)結(jie)構(gou)(gou));B41J2002/1655(清(qing)潔(jie)(jie)帶清(qing)潔(jie)(jie)噴(pen)嘴)。

　　圖 5 所(suo)示(shi)為(wei)該領域重要技術分(fen)支(zhi)(zhi)(zhi)的專(zhuan)(zhuan)利(li)申(shen)請(qing)量(liang)趨勢。分(fen)析可(ke)知(zhi)，該領域創新(xin)主體(ti)近十年來在B41J2/16538、B41J2/16544、 B41J2002/1655 這(zhe)(zhe) 3個分(fen)支(zhi)(zhi)(zhi)的創新(xin)相(xiang)對較(jiao)為(wei)活(huo)躍，專(zhuan)(zhuan)利(li)申(shen)請(qing)量(liang)在 波動中保持大幅增長，2017 年這(zhe)(zhe)3 個分(fen)支(zhi)(zhi)(zhi)的申(shen)請(qing)量(liang)均達(da)到(dao)峰(feng)值;而B41J2/16541 分(fen)支(zhi)(zhi)(zhi)的專(zhuan)(zhuan)利(li)申(shen)請(qing)量(liang)長期保持平穩態(tai)勢，可(ke)見創新(xin)主體(ti)在該分(fen)支(zhi)(zhi)(zhi)的創新(xin)活(huo)力相(xiang)對較(jiao)弱(ruo)。

　　圖 6 所(suo)示為(wei)全(quan)球主(zhu)要申(shen)(shen)(shen)請(qing)(qing)國的(de)專利(li)技(ji)術(shu)分(fen)(fen)(fen)布(bu)情況。分(fen)(fen)(fen)析可(ke)知(zhi)， B41J2/16538(刷子或(huo)擦(ca)拭(shi)器刮板清潔噴嘴)是該(gai)領域最(zui)受(shou)關(guan)注的(de)技(ji) 術(shu)分(fen)(fen)(fen)支(zhi)(zhi)，各主(zhu)要申(shen)(shen)(shen)請(qing)(qing)國在該(gai)分(fen)(fen)(fen)支(zhi)(zhi)的(de)專利(li)申(shen)(shen)(shen)請(qing)(qing)量(liang)均(jun)較(jiao)大(da)。日本和(he)美(mei)國在該(gai)領域 4 大(da)分(fen)(fen)(fen)支(zhi)(zhi)的(de)專利(li)申(shen)(shen)(shen)請(qing)(qing)量(liang)均(jun)名列前(qian)兩(liang)位，遠超其(qi)他(ta)國家(jia)，創(chuang)新活(huo)躍度全(quan)面(mian)領先，而其(qi)他(ta)國家(jia)在上述4 個分(fen)(fen)(fen)支(zhi)(zhi)的(de)申(shen)(shen)(shen)請(qing)(qing)量(liang)均(jun)不足 100 件，技(ji)術(shu)實力相對較(jiao)弱。

　　圖 7 所(suo)示為全(quan)球主(zhu)要(yao)創新(xin)主(zhu)體(ti)的(de)專利技(ji)術(shu)(shu)分(fen)布情況。分(fen)析(xi)可知，該領域(yu)排(pai)名前 5 的(de)創新(xin)主(zhu)體(ti)如精工愛普(pu)生、佳能、惠普(pu)、馬姆杰(jie)特科技(ji)、兄弟工業在(zai)(zai)各(ge)技(ji)術(shu)(shu)分(fen)支均有專利布局，研(yan)(yan)發(fa)涉及(ji)面均較廣(guang)。B41J2/16538 仍是行(xing)業巨頭最(zui)熱衷研(yan)(yan)究的(de)技(ji)術(shu)(shu)分(fen)支，專利申請量明(ming)顯(xian)高于其他分(fen)支，說(shuo)明(ming)全(quan)球主(zhu)要(yao)創新(xin)主(zhu)體(ti)在(zai)(zai)該領域(yu)的(de)研(yan)(yan)發(fa)重點主(zhu)要(yao)集中(zhong)在(zai)(zai)采用刷子(zi)或擦拭器(qi)刮板清潔(jie)噴嘴方面。

　　重點專利(li)技術分(fen)析

　　1. 刷子或擦拭(shi)器(qi)刮板(ban)清潔噴嘴

　　對于擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)刮板清潔噴嘴的(de)技術研究主(zhu)要在(zai)于對擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)結(jie)構和安裝 方(fang)式(shi)等(deng)(deng)(deng)方(fang)面的(de)改進。如圖8所(suo)示，惠普公司(si)的(de)專利申請 (CN102858545A)中(zhong)公開的(de)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)包括：第(di)(di)一(yi)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)區(qu)段(duan)，其寬度(du)(du)大(da)致(zhi)等(deng)(deng)(deng)于小打(da)(da)印(yin)(yin)頭組(zu)件(jian)的(de)孔(kong)口區(qu)的(de)寬度(du)(du);鄰接所(suo)述(shu)第(di)(di)一(yi)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)區(qu)段(duan)的(de)分離(li)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi);第(di)(di)二(er)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)區(qu)段(duan)，其鄰接所(suo)述(shu)分離(li)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)，從(cong)而(er)使得(de)第(di)(di)一(yi)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)區(qu)段(duan)的(de)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)動作不受第(di)(di)二(er)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)區(qu)段(duan)的(de)影響，所(suo)述(shu)第(di)(di)一(yi)、第(di)(di)二(er)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)區(qu)段(duan)和分離(li)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)的(de)組(zu)合寬度(du)(du)大(da)致(zhi)等(deng)(deng)(deng)于大(da)打(da)(da)印(yin)(yin)頭組(zu)件(jian)的(de)孔(kong)口區(qu)的(de)寬度(du)(du)，將同一(yi)個擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)設置成兩(liang)段(duan)可以(yi)同時擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)不同大(da)小的(de)噴嘴表(biao)面。擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)傾斜設置在(zai)安裝座上，針(zhen)對沒(mei)有角度(du)(du)的(de)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)，當擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)刮片清理打(da)(da)印(yin)(yin)頭組(zu)件(jian)時，彎曲的(de)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)刮片中(zhong)存儲(chu)的(de)能(neng)(neng)量會被立即全(quan)部釋放。相(xiang)反，針(zhen)對有角度(du)(du)的(de)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)，諸(zhu)如擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)器(qi)(qi)(qi)(qi)(qi)逐漸與打(da)(da)印(yin)(yin)頭組(zu)件(jian)結(jie)合并脫離(li)結(jie)合，在(zai)時間上擴散了能(neng)(neng)量釋放，從(cong)而(er)降低(di)了其幅值，改善了伴隨著(zhu)擦(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)(ca)拭(shi)(shi)(shi)過程的(de)聲學質量。

　　2. 從擦拭器或(huo)刮板除(chu)去沉積的裝置

　　擦(ca)拭器(qi)在擦(ca)拭過(guo)(guo)程中(zhong)會被噴(pen)嘴表面的(de)(de)(de)油墨污(wu)(wu)(wu)(wu)染，影響(xiang)下(xia)次(ci)(ci)擦(ca)拭，因此需(xu)要對(dui)其進(jin)(jin)行(xing)清(qing)(qing)潔(jie)(jie)。如(ru)圖 9 所示，三緯(wei)國際立體列印科技(ji)公司的(de)(de)(de) 專利申請(CN108943720A)中(zhong)公開(kai)的(de)(de)(de)從擦(ca)拭器(qi)除去沉(chen)積的(de)(de)(de)裝置(zhi)，當(dang)清(qing)(qing)潔(jie)(jie)著色噴(pen)頭(tou) 20 時，活(huo)動(dong)(dong)(dong)(dong)刮(gua)(gua)(gua)片(pian)(pian)200 旋轉(zhuan)使(shi)其接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 移(yi)出清(qing)(qing)潔(jie)(jie)槽(cao) 100 的(de)(de)(de)開(kai)口(kou) 101，移(yi)動(dong)(dong)(dong)(dong)過(guo)(guo)程干(gan)(gan)(gan)涉(she)吸水(shui)干(gan)(gan)(gan)涉(she)件(jian)(jian) 300，吸水(shui)干(gan)(gan)(gan)涉(she)件(jian)(jian) 300吸收接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 上(shang)(shang)沾(zhan)(zhan)附的(de)(de)(de)清(qing)(qing)潔(jie)(jie)液10，由此避免(mian)接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 刮(gua)(gua)(gua)刷著色噴(pen)頭(tou) 20 時將(jiang)過(guo)(guo)多的(de)(de)(de)清(qing)(qing)潔(jie)(jie)液 10 沾(zhan)(zhan)附至著色噴(pen)頭(tou) 20 上(shang)(shang)，進(jin)(jin)而(er)避免(mian)沾(zhan)(zhan)附在著色噴(pen)頭(tou) 20 上(shang)(shang)的(de)(de)(de)清(qing)(qing)潔(jie)(jie)液 10 沾(zhan)(zhan)附料(liao)粉而(er)形成(cheng)污(wu)(wu)(wu)(wu)泥。著色噴(pen)頭(tou) 20 接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 并且水(shui)平(ping)往(wang)復移(yi)動(dong)(dong)(dong)(dong)使(shi)接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 刮(gua)(gua)(gua)除著色噴(pen)頭(tou) 20 上(shang)(shang)附著的(de)(de)(de)污(wu)(wu)(wu)(wu)泥，待清(qing)(qing)潔(jie)(jie)完成(cheng)后，活(huo)動(dong)(dong)(dong)(dong)刮(gua)(gua)(gua)片(pian)(pian) 200旋 轉(zhuan)使(shi)其接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220向清(qing)(qing)潔(jie)(jie)槽(cao) 100 內移(yi)動(dong)(dong)(dong)(dong)，此時吸水(shui)干(gan)(gan)(gan)涉(she)件(jian)(jian)300 移(yi)出接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 的(de)(de)(de)移(yi)動(dong)(dong)(dong)(dong)行(xing)程，避免(mian)吸附接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 上(shang)(shang)沾(zhan)(zhan)附的(de)(de)(de)污(wu)(wu)(wu)(wu)泥。活(huo)動(dong)(dong)(dong)(dong)刮(gua)(gua)(gua)片(pian)(pian)200 的(de)(de)(de)接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 浸入清(qing)(qing)潔(jie)(jie)液 10 中(zhong)，由清(qing)(qing)潔(jie)(jie)液 10 溶解接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 上(shang)(shang)沾(zhan)(zhan)附的(de)(de)(de)污(wu)(wu)(wu)(wu)泥，且接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 進(jin)(jin)一(yi)步移(yi)動(dong)(dong)(dong)(dong)至接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)沉(chen)水(shui)干(gan)(gan)(gan)涉(she)件(jian)(jian) 400，沉(chen)水(shui)干(gan)(gan)(gan)涉(she)件(jian)(jian) 400 刮(gua)(gua)(gua)除接(jie)(jie)(jie)(jie)觸(chu)(chu)(chu)端(duan)(duan)(duan)(duan)(duan) 220 上(shang)(shang)沾(zhan)(zhan)附的(de)(de)(de)污(wu)(wu)(wu)(wu)泥，由此清(qing)(qing)潔(jie)(jie)活(huo)動(dong)(dong)(dong)(dong)刮(gua)(gua)(gua)片(pian)(pian) 200 以供下(xia)次(ci)(ci)清(qing)(qing)潔(jie)(jie)著色噴(pen)頭(tou)20。

　　3. 擦拭器的定位結構(gou)

　　擦拭器在(zai)擦拭噴(pen)嘴(zui)(zui)時需要驅動(dong)裝置(zhi)(zhi)(zhi)將擦拭器定(ding)(ding)位(wei)到(dao)噴(pen)嘴(zui)(zui)表面。如圖(tu) 10 所示，明碁(qi)電通(tong)股份有(you)限(xian)公司的(de)(de)專利申請(CN1332085A)中(zhong)公開(kai)的(de)(de)擦拭器定(ding)(ding)位(wei)結構，在(zai)維(wei)護座(zuo)的(de)(de)殼體中(zhong)設(she)置(zhi)(zhi)(zhi)有(you)清潔(jie)(jie)(jie)橇，且(qie)該(gai)清潔(jie)(jie)(jie)橇能前后(hou)滑動(dong)。在(zai)噴(pen)嘴(zui)(zui)進入(ru)維(wei)護區以后(hou)，清潔(jie)(jie)(jie)橇與殼體的(de)(de)相對(dui)運動(dong)會迫使(shi)刮片(pian)座(zuo)從刮片(pian)座(zuo)塢滑入(ru)工作區中(zhong)。簡易的(de)(de)鎖定(ding)(ding)裝置(zhi)(zhi)(zhi)會固定(ding)(ding)清潔(jie)(jie)(jie)橇，并(bing)使(shi)該(gai)刮片(pian)座(zuo)維(wei)持在(zai)適當位(wei)置(zhi)(zhi)(zhi)。當噴(pen)墨打印(yin)頭離開(kai)維(wei)護座(zuo)時，噴(pen)嘴(zui)(zui)會被加以清潔(jie)(jie)(jie)，且(qie)在(zai)清潔(jie)(jie)(jie)完成后(hou)，打印(yin)頭會解除該(gai)鎖定(ding)(ding)裝置(zhi)(zhi)(zhi)，清潔(jie)(jie)(jie)橇回到(dao)原(yuan)始(shi)位(wei)置(zhi)(zhi)(zhi)，從而使(shi)刮片(pian)座(zuo)移回刮片(pian)座(zuo)塢中(zhong)，不再與打印(yin)頭的(de)(de)噴(pen)嘴(zui)(zui)連動(dong)。

　　4. 清潔(jie)帶清潔(jie)噴嘴(zui)

　　通過清潔(jie)帶(dai)清潔(jie)噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)時，一(yi)般結合使用清潔(jie)液(ye)可以(yi)達到更(geng)(geng)好的(de)(de)(de)清潔(jie) 效果。如圖11 所示(shi)，富士膠片株式(shi)會社的(de)(de)(de)專利申請(WO2016047420A1) 中公開(kai)的(de)(de)(de)擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)器，送(song)出側(ce)(ce)網(wang)(wang)狀(zhuang)物(wu)芯(xin)(xin) 102 是水(shui)平(ping)地延伸并以(yi)能(neng)(neng)夠(gou)(gou)繞軸旋轉的(de)(de)(de)方(fang)式(shi)被(bei)支承的(de)(de)(de)圓柱狀(zhuang)部件，在送(song)出側(ce)(ce)網(wang)(wang)狀(zhuang)物(wu)芯(xin)(xin) 102 的(de)(de)(de)外周面(mian)卷繞有(you)噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)片 120。另一(yi)方(fang)面(mian)，卷繞側(ce)(ce)網(wang)(wang)狀(zhuang)物(wu)芯(xin)(xin) 104 是水(shui)平(ping)地延伸并被(bei)支承為能(neng)(neng)夠(gou)(gou)繞軸旋轉的(de)(de)(de)圓柱狀(zhuang)部件，從送(song)出側(ce)(ce)網(wang)(wang)狀(zhuang)物(wu)芯(xin)(xin) 102 送(song)出并擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)了噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)面(mian)57K 的(de)(de)(de)噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)擦(ca)拭(shi)(shi)(shi) 片120 卷繞成(cheng)卷狀(zhuang)。從送(song)出側(ce)(ce)網(wang)(wang)狀(zhuang)芯(xin)(xin) 102 送(song)出的(de)(de)(de)噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)片 120 被(bei)按(an)壓輥 110 按(an)壓于噴(pen)(pen)墨(mo)頭 56K 的(de)(de)(de)噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)面(mian) 57K，而擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)附著于噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)面(mian) 57K 的(de)(de)(de)油墨(mo)等液(ye)滴(di)。然后，擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)了液(ye)滴(di)的(de)(de)(de)噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)片 120 到達卷繞側(ce)(ce)網(wang)(wang)狀(zhuang)物(wu)芯(xin)(xin) 104而被(bei)卷繞，從而高效地利用噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)片 120 擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)噴(pen)(pen)嘴(zui)(zui)面(mian) 57K。由于利用清洗液(ye)賦予機(ji)構 93 賦予清洗液(ye)108，因(yin)此能(neng)(neng)夠(gou)(gou)達到更(geng)(geng)有(you)效的(de)(de)(de)擦(ca)拭(shi)(shi)(shi)效果。

　　本(ben)文對(dui)使用擦拭結構(gou)對(dui)打印噴嘴進(jin)(jin)行清理技(ji)術(shu)領域(yu)的(de)專(zhuan)利(li)(li)現狀進(jin)(jin)行了(le)分(fen)析，可以(yi)為創新(xin)(xin)主體的(de)技(ji)術(shu)研發(fa)和創新(xin)(xin)突(tu)破、專(zhuan)利(li)(li)布局策略(lve)提供(gong)參(can)考。從數(shu)據(ju)統計和技(ji)術(shu)發(fa)展(zhan)狀況分(fen)析可以(yi)看出，近 20 年來(lai)該(gai)領域(yu)全球專(zhuan)利(li)(li)申請量(liang)總體上(shang)呈波動發(fa)展(zhan)態勢，2016 年之前是(shi)行業成 長期，每年專(zhuan)利(li)(li)申請量(liang)相對(dui)較少;自(zi) 2017 年開始，該(gai)領域(yu)技(ji)術(shu)研究和專(zhuan)利(li)(li)保護進(jin)(jin)入快速提升階段，專(zhuan)利(li)(li)申請量(liang)顯著增加。另外(wai)，該(gai)領域(yu)的(de)日本(ben)專(zhuan)利(li)(li)申請占(zhan)據(ju)半(ban)壁江山(shan)，全球排名前十的(de)創新(xin)(xin)主體有 6 位(wei)來(lai)自(zi)日本(ben)，研發(fa)實力(li)具有絕(jue)對(dui)領先優勢。

　　目前(qian)，該(gai)領域主要技術分(fen)支發展(zhan)較為成熟，發展(zhan)歷程中多次(ci)出現申(shen)(shen)請(qing)高(gao)峰并(bing)伴隨核(he)心(xin)技術的突破，說明(ming)該(gai)領域的技術發展(zhan)具(ju)有持續性和很強的生命(ming)力，尤其是近(jin)年來該(gai)領域全球(qiu)專利申(shen)(shen)請(qing)明(ming)顯呈現走高(gao)趨勢，可以預見(jian)未來會(hui)有新的核(he)心(xin)技術誕生，專利申(shen)(shen)請(qing)量將再(zai)創高(gao)峰。